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Tris(Tert-Butoxy)Silanol 三(叔丁氧基)硅烷醇
CAS 18166-43-3 MFCD00271024
化学结构图
SMILES: CC(C)(C)O[Si](O)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C
化学属性
Mol. Formula
((CH3)3CO)3SiOH
Mol. Weight
264.43
Boiling Point
205-210 °C(lit.)
Melting Point
63-65 °C(lit.)
Appearance
white liq. to semi-solid white solid
Stability
moisture sensitive
Danger-Level
-
pH
-:-
Redox
-
别名和识别编码
Chemical Name
Tris(Tert-Butoxy)Silanol
MDL Number
MFCD00271024
CAS Number
18166-43-3
Synonym
TBS 三(叔丁氧基)硅烷醇
PubChem Substance ID
329761906
Chemical Name Translation
三(叔丁氧基)硅烷醇
原料直供
试剂商城
直接询价
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现货库存
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分类
{SNA} 14: Silicon, CVD and ALD Precursors Packaged for Deposition Systems, CVD and ALD Precursors by Metal, Chemical Synthesis, Micro/NanoElectronics, Organometallic Reagents, Organosilicon, Silanols, Silicon, Vapor Deposition Precursors, 材料科学
{SNA} Micro/NanoElectronics, Silanes, Silicon, Solution Deposition Precursors, 材料科学
{SNA} Materials Science, Micro/NanoElectronics, Silanes, Silicon, Solution Deposition Precursors
{SA} Materials Science, Micro/NanoElectronics, Silanes, Silicon, Solution Deposition Precursors
安全信息
WGK Germany
3
Personal Protective Equipment
Eyeshields, Gloves, type N95 (US), type P1 (EN143) respirator filter
Restrict
-
系列性分类
Materials Science 材料科学
Micro/NanoElectronics - Materials Science
Vapor Deposition Precursors - Micro/NanoElectronics
CVD and ALD Precursors Packaged for Deposition Systems - Vapor Deposition Precursors
Materials Science 材料科学
Micro/NanoElectronics - Materials Science
Solution Deposition Precursors - Micro/NanoElectronics
Silicon - Solution Deposition Precursors
Silanes 硅烷
Materials Science 材料科学
Micro/NanoElectronics - Materials Science
Vapor Deposition Precursors - Micro/NanoElectronics
CVD and ALD Precursors by Metal - Vapor Deposition Precursors
Silicon - CVD and ALD Precursors by Metal
CVD & ALD Precursors
Alkoxide
Silicon
CVD & ALD Precursors
Silicon
Metal Alkoxides for CVD & ALD
Silicon
Silanes & Silanols for CVD & ALD
Silicon
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